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合金铜CMP抛光液作用:吉致电子金属类抛光液适用于平面形态的铜、合金铜工件的镜面抛光，CMP抛光工序通过大量磨擦和化学反应作用，可以使铜金属表面得到加工和平整坦化。化学氧化铜金属后磨蚀性去除氧化物部分的机制可得到理想镜面效果，工件表面光滑平整具有易清洗、无残留等特点。
吉致可提供铜/合金铜金属的镜面抛光液
1、微米/纳米级抛光液，抛光后具有均匀镜面效果
2、磨料颗粒呈悬浮状态，不易分散沉淀，提高CMP效率和稳定性
3、铜专用抛光液磨料硬度高、稳定性好、化学惰性强，
*可以依客户不同工艺要求，提供定制化服务
*提供全套解决方案，及免费安排工程师上门服务
李女士17706168670