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吉致电子JEEZ氧化层抛光液/CMP抛光液 无锡吉致电子25年研发生产氧化层抛光液 /Oxide slurry/CMP抛光液/氧化物CMP研磨液/氧化物化学机械抛光液/半导体CMP抛光液/氧化层lapping研磨抛光液/氧化层slurry/氧化层抛光液抛光浆料/氧化层集成电路抛光液/氧化层CMP化学机械抛光液slurry/氧化层抛光液slurry磨料类型:半导体cmp抛光液slurry磨料粒径:纳米级SiO2产品特点
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2023-08-22 |
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吉致电子JEEZ碳化硅晶圆抛光液 硅衬底抛光液 抛光液 无锡吉致电子25年研发生产碳化硅晶圆抛光液/硅衬底SIC抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液/硅衬底抛光液/slurry抛光液产品简介:为电力电子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化学机械平坦化配制的抛光液。CMP抛光液大大提高了碳化硅晶圆表面去除率和平坦化性能,提供了非常好的表面光洁度吉致电子碳化硅晶圆Slurry抛光液使用方
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吉致电子JEEZ半导体抛光液/蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液 无锡吉致电子25年研发生产蓝宝石研磨液/蓝宝石LED衬底抛光液/Sapphire Slurry/CMP化学机械抛光/液蓝宝石A向抛光液/蓝宝石C向抛光液/半导体抛光液/吉致蓝宝石抛光液/蓝宝石研磨液厂家/蓝宝石抛光液厂家/JEEZ蓝宝石抛光液/蓝宝石CMP集成电路抛光液/蓝宝石slurry/蓝宝石Lapping研磨抛光液产品简介:为半导体行业/光学行业调配
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吉致电子JEEZ手机LOGO抛光液/金属抛光液/镜面抛光液 无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产手机Logo抛光液、金属抛光液、镜面CMP Slurry、手机Logo研磨液、LOGO SLURRY、CMP化学机械抛光液、CMP集成电路抛光液、手机CMP镜面抛光液金属logo抛光液作用:吉致电子金属logo抛光液适用于Apple Logo抛光,钛合金、铝合金、不锈钢材质的logo标志可通过CMP粗磨、细磨和抛光工序得到理想
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吉致JEEZ 钨抛光液/W 抛光液/半导体研磨液 无锡吉致电子25年研发生产钨抛光液/W CMP Slurry/W 抛光液/半导体研磨液/CMP抛光液/化学机械抛光液/CMP化学机械抛光液slurry/CMP集成电路抛光液钨W抛光液作用:吉致电子钨W抛光液适用于8-12吋氧化硅镀膜片的抛光。特选粒径均一的SiO2水溶胶为磨料,抛光清洗后晶圆表面粗糙度低、颗粒残留少。与国内外同类产品相比,具有易清
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吉致电子JEEZ金属抛光液/液压元件回程盘/九孔盘抛光液 无锡吉致电子科技有限公司25年研发生产:金属抛光液、液压元件回程盘抛光液、九孔盘CMP抛光液、液压泵CMP抛光液、不锈钢抛光液、液压铸件抛光液、CMP抛光液、不锈钢Slurry、CMP集成电路抛光液、CMP化学机械抛光液slurry我司产品优点:1.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。2.颗粒分散均匀,不团聚,软硬度适中,有效避免抛光过
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吉致JEEZ浅槽隔离抛光液/STI抛光液/浅沟槽隔离抛光液 无锡吉致电子25年研发生产浅槽隔离抛光液/STISlurry抛光液/浅沟槽隔离化学机械抛光液/浅沟槽隔离Slurry/浅槽隔离研磨抛光液/STI浅槽隔离平坦化抛光液slurry/浅沟槽隔离抛光液抛光浆料slurry/吉致电子STI抛光液产品简介:STISlurry适用于集成电路当中的铜互连工艺制程中铜的去除和平坦化。具有高的铜去除速率,碟型凹陷可调
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吉致JEEZ射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学抛光液 无锡吉致电子25年研发生产射频滤波器抛光液 /半导体抛光液 /CMP抛光液/CMP化学机械抛光液/射频滤波器Slurry/射频滤波器CMP化学机械抛光液Slurry/射频滤波器CMP集成电路抛光液/射频滤波器抛光液抛光浆料Slurry产品名称:射频滤波器抛光液/半导体抛光液/CMP化学机械抛光液产品简介:射频滤波器抛光液适用于集成电路当中的铜互
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